F07100 - SEMI F71 - ガス供給システムの温度サイクル試験方法 Revision:SEMI F71-1102 - Inactive together with test methods suitable

together with test methods suitable for determining their magnitude where such procedures are documented

SEMI MF95 — Test Method for Thickness of Lightly Doped Silicon Epitaxial Layers on Heavily Doped Silicon Substrates Using an Infrared Dispersive Spectrophotometer

Alternative methods may be used as long as they comply with SEMI C1 guidelines for method validation

半導体製造工場では，ストッカ格納および工程間搬送に高い基本性能が必要である。この基本性能に加えて，300 mmウェーハキャリアのサイズが大きくなったことおよびその重量が増大したことで必要となった人間工学的および安全要求事項を考慮すると，工程内搬送が必要となる。製造装置へ，また製造装置からの材料搬送の完全自動化を経済的に実現するため，これらストッカ，工程間搬送および工程内搬送システムは，お互いに，そしてまた，その工場の"製造管理システム（MES）"と完全に統合する必要がある。

F07100 - SEMI F71 - ガス供給システムの温度サイクル試験方法 Revision:SEMI F71-1102 - Inactive together with test methods suitableNOTICE: This translation is a REFERENCE COPY ONLY. If differences should exist between the English version and a translation in any other language, the English version is the official and authoritative version. SEMI SEMI Global Facilities CommitteeJapan Facilities Committee2002719Japan Regional Standards Committee20029www. semi. org200211 NOTICE: This Standard or Safety Guideline has an Inactive Status because the conditions to maintain Current Status